Führende Mixed-Signal Foundry und EDA-Anbieter entwickeln gemeinsam Design-Kits zur Senkung der Entwicklungszeiten und -kosten

Die X-FAB Semiconductor Foundries AG, eineder weltweit führenden unabhängigen Analog/Mixed-Signal-Halbleiterfoundries, hat jetzt mitTanner EDA, einem weltweit führenden Anbieter von Tools für Analog/Mixed-Signal-IC- und MEMS-Design auf Windows, ein Abkommen zur Zusammenarbeit getroffen. X-FAB und Tanner EDA entwickeln gemeinsam umfassende Entwicklungskits im Bereich Analog/Mixed-Signal-ICsfür Standard-Prozesstechnologien. Für die Designteams bedeutet das eine schnellere Produkt-entwicklung und bessere Entwicklungsqualität bei abschätzbaren EDA-Kosten.

"Immer mehr Produkte erfordern RF/Wireless-, neueste Grafik- und Bildverarbeitungstechnologie
sowie komplexes Power-Management, welche die Anforderungen an Analog- und Mixed-Signal-Designs
mehr als alle anderen Trends in der Halbleiterindustrie vorantreiben," sagt Dr. John Tanner, President
und CEO von Tanner Research, der Muttergesellschaft von Tanner EDA, "hinzu kommen eine wachsende
Marktnachfrage nach Leistungsmerkmalen, der Kampf um die schnellere Marktreife, steigende Entwicklungs-
kosten und sinkende Einnahmen, welche die Halbleiterentwickler mit Herausforderungen konfrontiert, die
typisch sind bei neuen Produktentwicklungen. Entscheidend ist, dass sie Lieferanten wählen, die ihnen
nicht nur das beste Preis/Leistungsverhältnis, sondern auch eine Partnerschaft zur Integration ihrer
Lösungen bieten. Die Kombination gemeinsam entwickelter Design-Kits für die X-FAB-Technologien
und die bewährten Tools von Tanner EDA für Analog/Mixed-Signal-Designs ermöglicht eine
schnellere Entwicklung und bessere Qualität bei gleichzeitiger Kostenbegrenzung."

"Die Allianz zwischen X-FAB und Tanner gibt einer großen Breite von Mixed-Signal-Entwicklern
die Entwicklungskits in die Hand, die sie zum Bewältigen der Herausforderungen in diesem wachsenden
Marktsegment benötigen," sagt Dr. Jens Kosch, CTO der X-FAB Gruppe, "unsere Zusammenarbeit
ergab sich quasi zwangsläufig, weil es der strategischen Ausrichtung beider Unternehmen entspricht ein
Höchstmaß an Leistung und einen erstklassigen Kundenservice für eine zunehmend kostenbewusste
Industrie zu liefern. Mit unseren Prozessen und Entwicklungskits sowie der "HiPer Silicon-Platform" von
Tanner EDA haben die Entwickler einen durchgängigen und effizienten Weg von der Schaltplaneingabe
bis zur physikalischen Implementierung zur Verfügung. Unsere Kunden profitieren von beschleunigter
Marktreife, niedrigeren Kosten, geringeren Risiken und kürzeren Entwicklungszyklen."

Zusätzlich zu den bereits existierenden PDKs (Process Development Kit) von Tanner für die Prozess-
familien 1.0µm, 0.8µm, 0.6µm und 0.35µm hat X-FAB Ende April 2005 das neueste Tanner-PDK für
seine 0.35µm, 3.3V BiCMOS-Technologie herausgebracht. Diese Technologie bietet 3- oder 4-Lagen-
Standardmetallisierung mit Optionen auf eine dicke vierte Metallebene, Doppel-Poly und MiM-Kondensator
(Metal-Insulator-Metal) sowie hochohmige Polywiderstände. Diese Technologie ist speziell für RF- und
Analog-Schaltungen mit erhöhten Anforderungen an die Präzision geeignet.

Über Tanner EDA
Tanner EDA ist weltweit führender Anbieter von Tools für Analog/Mixed-Signal-IC- und MEMS-Design
auf Windows. Mit Hauptsitz in Pasadena/Kalifornien und weltweiten Vertriebsbüros entwickelt Tanner EDA
Design-Erfassungs, Simulations-, Layout- und Verifikationssoftware für Analog- und Mixed-Signal-Halbleiter
für Anwendungsbereiche wie Hochfrequenz, Optoelektronik, Biomedizin, Stromversorgung uvm. Die Kern-
produkte von Tanner EDA sind HiPer Verify, L-Edit Pro und T-Spice Pro für einen kompletten
hochleistungsfähigen Entwicklungsdurchlauf einschließlich Schema-Eingabe, Wellenformprüfung,
Full-Custom-Layout-Editing, Platzieren und Routen, LVS- und DRC-Verifikation, Netzlistenextraktion und
Schaltungssimulation. Die 1988 gegründete Tanner EDA ist ein Geschäftsbereich der in Privatbesitz
befindlichen Tanner Research, Inc., und bietet weitere Informationen auf ihrer Website www.tannereda.com .