Am Standort Dresden suchen wir im Bereich HCVD - WPRO zum nächstmöglichen Zeitpunkt einen engagierten Studenten (m/w) zur Bearbeitung des folgenden Themas:
Untersuchung des Einflusses von Inertgasen auf die plasmaunterstützte Abscheidung von Siliziumnitrid
Die Abscheidung von Siliziumnitrid mittels PECVD erfolgt konventionell über Silan-Ammoniak-Stickstoff-Prozesse. Eine vielversprechende Möglichkeit zur gezielten Beeinflussung der Schichtparameter ist die Zugabe von Inertgasen (Argon, Helium). Im Rahmen des Praktikums sollen diese Einflüsse durch Variation der Prozessparameter näher untersucht werden. Die Aufgabe umfasst die Planung und Durchführung von Versuchen an Einzelscheibenanlagen, sowie die Charakterisierung der resultierenden Schichteigenschaften. Ausgehend von der Ermittlung grundlegender Abhängigkeiten kann die Aufgabe um die gezielte Entwicklung eines Prozesses zur Abscheidung von spannungsreduzierten Siliziumnitridschichten erweitert werden.
Die Bearbeitung ist im Rahmen eines Praktikums und/oder einer Abschlussarbeit möglich.
Aufgaben:
- Aufstellung von Versuchsplänen zur Ermittlung grundlegender Zusammenhänge zwischen den Prozessbedingungen und den resultierenden Schichteigenschaften
- Selbstständige Planung und Durchführung von Versuchen an der Anlage
- Charakterisierung der Prozesse und der abgeschiedenen Schichten anhand von Abscheiderate, Brechungsindex, Schichtspannung
Profil:
- Sie sind Student/in der Physik, Mathematik, Mikroelektronik oder einer vergleichbaren Fachrichtung
- Sie besitzen Grundkenntnisse im MS Office
- Sie interessieren sich für die Halbleitertechnik und verfügen idealerweise bereits über Erfahrungen in diesem Bereich
- Sie verfügen über Interesse an praktischer Arbeit im Reinraum und bringen eine selbständige und umsichtige Arbeitsweise mit.
Bitte richten Sie Ihre Bewerbung in elektronischer Form an:
Ansprechpartnerin: Kathrin Baar, Telefon: 0351- 40756 223.
Wir freuen uns auf Ihre Bewerbung.
