Am Standort Dresden suchen wir im Bereich HCVD - WPRO zum nächstmöglichen Zeitpunkt einen engagierten Studenten (m/w) zur Bearbeitung des folgenden Themas im Rahmen eines Praktikums:
Untersuchung der Skalierbarkeit von PECVD-Prozessen zur Oxidabscheidung
Die Abscheidung von extrem dünnen Siliziumoxidschichten mittels PECVD setzt gut kontrollierbare Prozesse voraus. Schlüsselfaktor zur genauen Einstellung von Zielschichtdicken unter 100 nm ist eine niedrige Abscheiderate, ohne die keine hinreichende Prozessdauer und somit genaue Einstellung möglich ist. Im Rahmen des Praktikums sollen die Möglichkeiten zur Verringerung der Abscheiderate und die Auswirkungen auf die Schichteigenschaften untersucht werden.
Aufgaben:
- Aufstellung von Versuchsplänen zur Ermittlung grundlegender Zusammenhänge zwischen den Prozessbedingungen und den resultierenden Schichteigenschaften
- Selbstständige Planung und Durchführung von Versuchen an der Anlage
- Charakterisierung der Prozesse und der abgeschiedenen Schichten anhand von Abscheiderate, Brechungsindex, Schichtspannung
- Feststellung der Reproduzierbarkeit unter Einhaltung der technologischen Vorgaben
Profil:
- Sie sind Student/in der Physik, Mathematik, Mikroelektronik oder einer vergleichbaren Fachrichtung
- Sie besitzen Grundkenntnisse im MS Office
- Sie interessieren sich für die Halbleitertechnik und verfügen idealerweise bereits über Erfahrungen in diesem Bereich
- Sie verfügen über Interesse an praktischer Arbeit im Reinraum und bringen eine selbständige und umsichtige Arbeitsweise mit.
Bitte richten Sie Ihre Bewerbung in elektronischer Form an:
Ansprechpartnerin: Kathrin Baar, Telefon: 0351- 40756 223.
Wir freuen uns auf Ihre Bewerbung.
