X-FAB发布业界首个高速光电应用优化生产工艺

NEWS, Erfurt, Germany, 一月 19, 2010.

德国爱尔福特,2010119日讯
业界领先的模拟/混合信号晶圆厂X-FAB Silicon Foundries今天宣布,针对蓝光和高速光学数据通信应用推出业界首个0.35微米技术解决方案。这一0.35微米生产技术正式定名为XO035,新工艺加入了X-FAB 独有的蓝光PIN模组技术,通过在应用广泛的0.35微米COMS环境中集成PIN结构二极管可以设计出高性能光电探测器,在整个可探测光谱范围内,无论是敏感度(特别是蓝光波长范围),还是速度都超出了0.6微米X-FAB光学传感器的表现,为客户开发下一代产品提供了便利。目前XO035已正式推出,该技术是高敏感度和高带宽应用的理想选择,可用于蓝光和其他光学数据存储、光学数据通信以及高动态范围相机等领域的光电探测芯片(PDIC)设计。

X-FAB
负责CMOS / BiCMOS技术开发的主管/经理Konrad Bach博士表示:“X-FAB正在积极推动新型PIN二极管在光电领域的应用。PIN二极管对目前市场上的蓝光应用具有最好的敏感度,达到0.31A/W左右,这一数字已接近物理极限。出色的敏感度,再加上高带宽和低噪音,完全能够设计出一流的12倍速蓝光产品芯片PDIC

PIN二极管对红光和红外线波长的敏感度大于0.4 A/W,能为DVDCD产品带来出色的性能,因此,可用于组合式光学数据存储驱动产品开发。另外,模块化结构能提供低噪音所需的双极晶体管,以及支持高速PIN二极管信号整定所需的快速MOS晶体管。

X-FAB是目前唯一一家在标准CMOS产品中集成PIN二极管的晶圆厂,同时还为客户提供光学窗口蚀刻以及相关抗反射层(ARC)。此外,X-FAB能为标准的模拟/混合信号产品提供射频有源/无源器件。这些将有助于客户设计单芯片集成光电探测系统,无需采用原来的双芯片解决方案。单芯片方案一方面可以提高敏感度和带宽总体性能,另一方面还能降低系统总成本。

上市信息

XO035工艺设计套件(PDK)目前已正式推出。该套件的一个显著特点是增加了光电二极管VERILOG-A行为模型。该模型可帮助设计人员将标准的电气设计流程应用到原本复杂的光电探测物理流程。此外,XO035 PDK还针对面积、速度、低功耗、低噪音等方面的优化提供内容丰富的标准元件库,以及I/O库和ESD支持。PDK和模拟/数字库可通过X-FAB在线技术信息中心X-TIC订购。